化学抛光的基本原理
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编辑时间: 2021-10-15 09:44:24
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化学抛光。化学抛光的基本原理就是将需要抛光的部件放入配置好的化学药水中，通过一定的化学反应使需要抛光的物品表面的凸起部位腐蚀溶解消除掉，是物体表面凹凸差变小从而使表面更趋于平滑的化学反应。,
化学抛光的作用：,
1：处理后的工件表面光滑细密，表面的亮度比机械抛光更好，可接受异形件，任何部件均可处理，使用工艺简捷，效果超过电解（抛光）抛光。,
2：表面机械力产生的硬化層被化学药水溶解掉，产生的应力消除，优化电焊性能。,
被机械切削，内壁吸附力变小。,
3：比机械抛光更好，其显露和倒伏的毛刺可完全剔除，内壁不产生电弧火花，不锈钢配件显示面光滑平整。,
表面被钝化，铁元素溶解的多从表面熔解，配件表面的平整性显著提高并贾强，增加不锈钢弓箭表面的抗氧化性，标面亮度，光滑性和卫生性都可明显踢高。,
4：可达不锈钢配件镜面光泽，凹凸性降低，，反射能高，流动性更快。,
5：表面徽观凸起处根据抛光时间长短可减薄抛光掉0.01~0.04mm左右，工件表面粗糙度加大，折射度接近镜面程度，Ra≦0.05um,
6：可以达到整平表面，清除毛刺毛边的作用。,
7：化学抛光抛光已经打到美国标准，另外XPS等检测结果也符合半导体SEMI标准。,
异形工件也可以，不需要通电极，任何部位均可处理，使用方便并且公义效果优于电解抛光。 ,
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